Estabilidade e integração da sondagem de RF
A configuração inclui uma estação de pontas de prova MPI de alto desempenho, disponível em configurações automatizadas e manuais, com opções de mandril térmico e isolamento de vibração para uma sondagem estável. Para esta configuração específica, a interface de RF depende das pontas de prova de ondas milimétricas Dual TITAN™ da MPI na configuração GSGSG, que são otimizadas para medições diferenciais de até 120 GHz. Essas pontas de prova oferecem uma vida útil excepcional, perda de retorno, perda de inserção e isolamento de porta em toda a faixa de ondas milimétricas, assim como visibilidade otimizada da ponta para contato preciso com o pad.
Para garantir a reprodutibilidade e a estabilidade de fase, a MPI desenvolveu uma jiga de teste de integração mecânica específica que fixa com segurança os extensores de frequência à estação de pontas de prova. Este dispositivo minimiza o movimento e a flexão dos cabos, mantém percursos consistentes dos cabos e encurta o trajeto do sinal de RF. Isso resulta em diretividade aprimorada, perda reduzida e medições altamente estáveis em repetidas tentativas. O exclusivo braço da ponta de prova de RF da MPI com feedthrough mecânico integrado garante medições isoladas de luz sem afetar a precisão do posicionamento da sonda.
A calibração é realizada utilizando substratos de calibração dupla MPI TCS, desenvolvidos especificamente para configurações GSGSG e adaptados ao espaço entre os pontos de contacto da sonda.
A família do MPI TCS é a próxima geração de substratos de calibração projetados para implementar as mais recentes conquistas e práticas recomendadas das técnicas de calibração de RF a nível de wafer. Com os padrões exclusivos de terminação por «peer» (nó de rede), tornou-se possível obter uma precisão de calibração excepcional em frequências acima de 110 GHz.
Os softwares QAlibria® e SENTIO® da MPI oferecem suporte completo, permitindo uma calibração rápida, precisa, confiável e totalmente automatizada, não apenas nas pontas das sondas, mas também ao usar padrões de calibração em wafer e em amplas faixas de temperatura.