유전 특성 최적화
재료와 재료 스택을 시뮬레이션하고 레이돔의 가상 복제본을 만들려면 유전율과 손실률을 알아야 합니다. 비유전율 εr은 재료 내 파장의 압축 요인과 상관관계를 가지며 tan δ(손실률)은 레이어에서 투과된 신호의 특정 감쇠를 특성분석합니다.
로데슈바르즈 유전율 계산기를 사용하여 두 파라미터를 모두 계산할 수 있으며 레이돔 레이어 시뮬레이션에 최적입니다.
유전 특성 추정을 위한 툴은 유전율 계산기 소프트웨어의 왼쪽 하단에 있습니다. 이 계산기는 최적화 툴을 사용하여 유전율 및 손실율을 기준으로 측정된 주파수 응답과 계산된 주파수 응답 사이의 최적값을 찾습니다. 다음의 계산 방식 중에서 선택할 수 있습니다.
- “Fixed εr obtained by transmission phase”(투과 위상으로 얻은 고정 εr) 설정에서는 tan δ만 최적화하며 비유전율은 고정 상태를 유지합니다
- 선택을 취소하는 경우, 최적화 프로그램은 비유전율을 좀더 자유롭게 개선할 수 있으며 투과 위상으로부터 계산된 비유전율은 초기값으로 작동합니다
두 방식 모두 대부분의 재료에 대해 유사한 결과를 도출합니다. 투과 위상은 매우 정확하게 측정할 수 있으며, 최적화 시 항상 투과 위상부터 시작하는 것이 좋습니다.
“Optimize using logarithmic scale (dB)”(로그 스케일(dB)을 이용한 최적화) 설정에서는 R&S®QAR50 주파수 대역 내에 공진이 있는 재료를 추정할 때 최적화 툴에서 로그 스케일(dB)을 이용하여 추정 정확도를 높입니다.
전역적 최적화는 지역 최저값으로 최적화되는 것을 방지하기 위해 계산된 유전율 값에 가까운 여러 개의 무작위 시작점을 사용합니다.
클러스터 1(S11) 또는 클러스터 2(S22)에서 얻은 반사 곡선은 고객별 애플리케이션에 사용할 수 있습니다.